ساخت غشاء نانو متخلخل سیلیکا-اکسید قلع

در این تحقیق غشاء میکرومتخلخل چندلایه سیلیکا-اکسید قلع، به روش سل-ژل و با استفاده از آلکوکسید تترا اتیل اورتو سیلیکات، آلکوکسید آلومینیم تری سک بوتیلات و دی بوتیل تین دی استات تهیه شد. برای تهیه لایه میانی، سل کلوئیدی آلومینا تهیه شد و به روش غوطه وری بر روی زیرلایه آلفا-آلومینا پوشش داده شد. پس از هربار پوشش دهی نمونه ها تا دمای ?200 حرارت داده شدند. پوشش دهی نمونه ها با سل کلوئیدی 5 مرتبه تکرار شده و در نهایت در دمای ?600 کلسینه شدند. سپس لایه نهایی به روش غوطه وری در سل پلیمری سیلیکا-اکسید قلع شکل گرفت. پس از هربار پوشش دهی نمونه ها تا دمای ?200 حرارت داده شدند. پس از 3 مرتبه پوشش دهی، نمونه ها در دمای ?500 کلسینه شدند. زیرلایه آلومینایی تهیه شده، توسط آنالیزهای زبری سنجی و میکروسکوپ الکترونی روبشی بررسی شد. سل ها و ژل های خشک شده و مورد استفاده برای تهیه لایه میانی و لایه نهایی و همچنین پوشش ها، با استفاده از آنالیزهای تفکیک پراش نوری(dls)، طیف سنجی عبوری مادون قرمز(ftir)، آنالیزهای حرارتی(dsc-tga)، میکروسکوپ الکترونی روبشی(sem)، میکروسکوپ اتمی(afm) و آنالیز فازی(xrd) مورد بررسی قرار گرفتند. پوشش سیلیکا-اکسید قلع تا دمای ?800 آمورف بود. آنالیز ftir ازنمونه حاوی %mol10 قلع فاقد پیک پیوندsn-o-sn بود. برای تهیه سل لایه میانی با استفاده از حلال اتانول و افزودنی pva، اندازه ذرات در محدوده 25 تا nm90 و با استفاده از حلال ایزوپروپانول و افزودنی pva، اندازه ذرات در بازه 40 تا nm200 بدست آمد. با استفاده از این سل های کلوئیدی لایه ای به ضخامت ?m6/4 تهیه شد. برای تهیه لایه نهایی از سل پلیمری سیلیکا-اکسید قلع با اندازه ذرات در محدوده 4/0 تا nm5/1، استفاده شده و پوشش با ضخامت حدود nm200 بدست آمد.